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电沉积工艺对氧化亚铜薄膜成相的影响 预览
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作者 刘科高 +2 位作者 张敏 杜长全 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2015年第2期24-27,共4页
利用电沉积的方法制备氧化亚铜薄膜,研究了络合剂的种类、浓度、后处理工艺及沉积时间对薄膜成相的影响。研究表明,络合剂柠檬酸钠有利于形成氧化亚铜薄膜;随着柠檬酸钠的浓度增加,薄膜中氧化亚铜含量降低,铜单质含量升高;沉积薄... 利用电沉积的方法制备氧化亚铜薄膜,研究了络合剂的种类、浓度、后处理工艺及沉积时间对薄膜成相的影响。研究表明,络合剂柠檬酸钠有利于形成氧化亚铜薄膜;随着柠檬酸钠的浓度增加,薄膜中氧化亚铜含量降低,铜单质含量升高;沉积薄膜后,后处理对薄膜成相影响很大,烘干前不清洗薄膜中含有溶液中物质;随着沉积时间变长,薄膜变厚,然后出现掉膜现象。实验结果表明,选用柠檬酸钠为络合剂,柠檬酸钠的浓度为0.015 mol/L,沉积t为30min,沉积薄膜后用蒸馏水清洗,制备出结晶良好,表面呈均匀纯相的氧化亚铜薄膜。 展开更多
关键词 氧化亚铜 电沉积 柠檬酸钠 纯相
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电沉积 CuS 镀液的电化学性能及镀膜相组成 预览
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作者 刘科高 +1 位作者 张力 高稳成 《表面技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期92-96,共5页
目的:获得结晶好、连续均匀的 CuS 薄膜。方法采用电沉积方法制备 CuS 薄膜,研究络合剂、硫源及铜硫离子比例对镀液电化学性能的影响,分析不同沉积电位下所得薄膜的相组成。结果柠檬酸钠的络合效果最好,EDTA 最差;硫代硫酸钠作为硫源... 目的:获得结晶好、连续均匀的 CuS 薄膜。方法采用电沉积方法制备 CuS 薄膜,研究络合剂、硫源及铜硫离子比例对镀液电化学性能的影响,分析不同沉积电位下所得薄膜的相组成。结果柠檬酸钠的络合效果最好,EDTA 最差;硫代硫酸钠作为硫源时,其还原电位较硫脲为硫源时正,氧化电位较负,水平距离值较小,更容易实现共沉积;铜硫离子比例为1时,施镀最合适。沉积电位为-0.8 V 时,薄膜的XRD 图谱中有氧化亚铜的衍射峰;当沉积电位在-0.9 V 时,生成了 Cu2 S 相;沉积电位在-0.9~-1.2 V时,生成了目标产物 CuS,并且-1.2 V 时的衍射峰强度比较高,结晶良好。结论最佳沉积条件如下:柠檬酸钠为络合剂,硫代硫酸钠为硫源,铜硫离子比为1,沉积电位为-1.2 V。 展开更多
关键词 电沉积 CUS 薄膜 镀液性能
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高耐蚀性镀锌层三价铬蓝白色钝化工艺 被引量:2
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作者 刘科高 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2013年第7期38-40,共3页
开发了一种环保的镀锌层三价铬蓝白色钝化工艺。研究了钝化液中CrCl3·6H2O、Na3C6H5O、NaNO3、钴盐等成分及pH和温度等工艺参数对钝化膜外观和耐蚀性的影响。蓝白铣化的最佳工艺条件为:CrCl3·6H2O 48 g/L, NaNO3 20 g/L,Na3C... 开发了一种环保的镀锌层三价铬蓝白色钝化工艺。研究了钝化液中CrCl3·6H2O、Na3C6H5O、NaNO3、钴盐等成分及pH和温度等工艺参数对钝化膜外观和耐蚀性的影响。蓝白铣化的最佳工艺条件为:CrCl3·6H2O 48 g/L, NaNO3 20 g/L,Na3C6H5O7 18g/L,钴盐 18 g/L,室温,pH 1.5,钝化时间 8 s。采用最佳工艺所得钝化膜为光亮、均匀的蓝白色,表面平整、致密,耐蚀性优于镀锌层。 展开更多
关键词 镀锌层 蓝白钝化 三价铬 耐蚀性
四酸型镀锌层军绿色钝化工艺 被引量:1
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作者 张馥 曾琳 +2 位作者 王光明 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2013年第7期41-44,共4页
提出了一种镀锌层四酸型军绿色钝化工艺。研究了钝化液中4种酸的含量和铫化时间对铫化膜外观和耐蚀性的影响。确定最佳工艺条件为:CrO3 6 g/L, H3PO4 2 mL/L,H2SO4 2 mL/L,H3NO3 3 mL/L,温度25 ℃, pH 1.5,钝化时间100 s。所得钝化... 提出了一种镀锌层四酸型军绿色钝化工艺。研究了钝化液中4种酸的含量和铫化时间对铫化膜外观和耐蚀性的影响。确定最佳工艺条件为:CrO3 6 g/L, H3PO4 2 mL/L,H2SO4 2 mL/L,H3NO3 3 mL/L,温度25 ℃, pH 1.5,钝化时间100 s。所得钝化膜为光亮的军绿色,耐蚀性较镀锌层好。 展开更多
关键词 镀锌层 钝化 军绿色 耐蚀性
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