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半导体厂酸性含氟生产废水处理系统 被引量:2
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作者 郭莉 李杨 +1 位作者 李旭鹏 《环境工程》 CAS CSCD 北大核心 2016年第S1期247-249,共3页
介绍了调节池-二级反应池-絮凝池-沉淀池-生物滤池工艺用于半导体厂酸性含氟废水的处理系统及其主要构筑物。半导体生产废水中氟化物浓度较高,呈酸性p H值为1~3。自2013年12月调试正常运行以来,效果良好,出水各项指标完全达到设计和排... 介绍了调节池-二级反应池-絮凝池-沉淀池-生物滤池工艺用于半导体厂酸性含氟废水的处理系统及其主要构筑物。半导体生产废水中氟化物浓度较高,呈酸性p H值为1~3。自2013年12月调试正常运行以来,效果良好,出水各项指标完全达到设计和排放要求。 展开更多
关键词 半导体酸性含氟废水 反应池 沉淀池
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