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射频等离子体诱导合成MoO2-Mo2N复合催化剂及其在合成气制低碳醇中的应用 预览
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作者 王亚文 侯亮 +3 位作者 屈皓 李建立 苏海全 谷晓俊 《陕西师范大学学报:自然科学版》 CAS CSCD 北大核心 2019年第1期60-67,共8页
通过射频等离子体改性体相Mo2N制备了MoO2-Mo2N复合催化剂,并考察了其在合成气制低碳醇反应中的催化性能。利用XRD、TEM、XPS、CO-TPD对改性前后的催化剂进行了表征,结果发现在等离子体处理过程中,体相Mo2N可与表面氧原子发生结构重组,... 通过射频等离子体改性体相Mo2N制备了MoO2-Mo2N复合催化剂,并考察了其在合成气制低碳醇反应中的催化性能。利用XRD、TEM、XPS、CO-TPD对改性前后的催化剂进行了表征,结果发现在等离子体处理过程中,体相Mo2N可与表面氧原子发生结构重组,产生了更多的活性位点,且生成的MoO2与Mo2N间存在一定的相互作用。所制得的MoO2-Mo2N复合催化剂的催化性能较体相Mo2N有所提升,在350℃反应温度下,CO转化率达到32.7%,醇选择性达到34.03%,醇类时空产率达到79.5mg/(g·h)。 展开更多
关键词 射频等离子体 氮化钼 氧化钼 合成气 低碳醇
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射频等离子体法制备球形化TC4(Ti6Al4V)合金粉末(英文)
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作者 赵翀 麻朝阳 +3 位作者 文子诚 曹永革 马冉 袁轩一 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期446-451,共6页
采用射频等离子体法制备了高度球形化的TC4(Ti6Al4V)合金粉末。主要探究仪器送粉喷嘴高度、产生等离子体的功率、反应室的压力、原料粉体的粒度分布、送粉速率以及载气的气流速率等对于粉体球化率的影响。通过SEM图像观察粉体的形貌变... 采用射频等离子体法制备了高度球形化的TC4(Ti6Al4V)合金粉末。主要探究仪器送粉喷嘴高度、产生等离子体的功率、反应室的压力、原料粉体的粒度分布、送粉速率以及载气的气流速率等对于粉体球化率的影响。通过SEM图像观察粉体的形貌变化并计算粉体的球化率,利用XRD图谱测定球化前后粉体相结构。结果表明,通过观察球化粉末横截面可知粉末为实心球体且表面光滑,球化后粉末流动性明显提高,松装密度增大,粒度分布变窄,适合3D打印等应用技术对于合金粉体的要求。实验中,调节送粉喷嘴高度为12.5 cm,反应室压力为101.36 kPa,送粉速率为1.742 g/min,产生等离子气的功率为27.2 kW且控制原料粉体的粒度分布在38~63μm时,可使得球化率达到99%,明显高于其他球化粉末制备方法。 展开更多
关键词 球化 Ti6Al4V分粉 射频等离子体
射频感性耦合等离子体源的研发 预览
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作者 吴祖光 马自达 +2 位作者 乌云额尔德尼 郭方准 臧侃 《数字通信世界》 2019年第3期121-122,共2页
本文介绍了自主研发的射频感性耦合等离子体源(RF-ICP)原理、设计和相关测试结果。RF-ICP主要由真空放电室、电感线圈(射频天线)、气体导入组件和射频电源及功率匹配器构成等组件构成。RF-ICP工作时,线圈电流产生的高频磁场在放电室内... 本文介绍了自主研发的射频感性耦合等离子体源(RF-ICP)原理、设计和相关测试结果。RF-ICP主要由真空放电室、电感线圈(射频天线)、气体导入组件和射频电源及功率匹配器构成等组件构成。RF-ICP工作时,线圈电流产生的高频磁场在放电室内产生感应电场,电子在电场加速下完成等离子体激发过程。模拟RF-ICP放电过程,优化了放电室形状和整体结构。通过实际测试验证了设备性能。 展开更多
关键词 射频等离子体 感性耦合
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射频等离子体球化中钼粉颗粒加热过程的数值模拟
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作者 陈文波 陈伦江 +2 位作者 刘川东 程昌明 童洪辉 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期859-864,共6页
对射频等离子体球化中钼粉颗粒的加热过程进行研究可以为优化等离子体制备球形钼粉的工艺过程提供参考。采用了数值模拟的方法研究了线圈电流频率、粉枪位置及送粉速率等参数对钼粉颗粒在射频等离子体中的运动轨迹及加热过程的影响效应... 对射频等离子体球化中钼粉颗粒的加热过程进行研究可以为优化等离子体制备球形钼粉的工艺过程提供参考。采用了数值模拟的方法研究了线圈电流频率、粉枪位置及送粉速率等参数对钼粉颗粒在射频等离子体中的运动轨迹及加热过程的影响效应。结果表明:线圈电流频率较低时,等离子体炬轴线附近的温度更高,钼粉颗粒在等离子体中运动时能够达到的温度也更高;改变粉枪位置仅对粒径较小颗粒的运动和加热有较大的影响;降低送粉速率可以提高颗粒从等离子体中获得的能量,从而在一定程度上提升钼粉的球化率。 展开更多
关键词 射频等离子体 钼粉颗粒 加热过程 数值模拟
等离子体增强原子层沉积技术制备铜薄膜
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作者 樊启鹏 胡玉莲 +2 位作者 桑利军 王卉 刘忠伟 《真空科学与技术学报》 CSCD 北大核心 2018年第4期306-312,共7页
集成电路的高速发展为铜互连提出诸多要求,其中,如何低温条件(≤150℃)下在大深宽比的通孔或沟槽中沉积保形性好、纯度高、导电性好的铜籽晶层是亟需解决的问题。本文利用等离子体增强原子层沉积技术,以脒基铜为铜前驱体,以氢等... 集成电路的高速发展为铜互连提出诸多要求,其中,如何低温条件(≤150℃)下在大深宽比的通孔或沟槽中沉积保形性好、纯度高、导电性好的铜籽晶层是亟需解决的问题。本文利用等离子体增强原子层沉积技术,以脒基铜为铜前驱体,以氢等离子体为还原物质,在较低的沉积温度(100℃)下,沉积了纯度高、导电性能优良的铜薄膜。在10:1的硅基沟槽中,表面与沟槽底部厚度均匀(-80nm)。考察了放电输入功率对薄膜形貌的影响并利用时间分辨发射光谱技术对氢等离子体进行在线诊断。本论文研究表明铜脒基前驱体用于低温等离子体辅助原子层沉积工艺,可有效地解决铜薄膜沉积过程中铜粒子的团聚问题,并为其它类脒基前驱体进行金属薄膜的沉积提供借鉴。 展开更多
关键词 射频等离子体 铜籽晶层 原子层沉积
Fabrication and characterization of He-charged ODS-FeCrNi films deposited by a radio-frequency plasma magnetron sputtering technique
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作者 宋亮 王先平 +6 位作者 王乐 张营 刘旺 蒋卫斌 张涛 方前锋 刘长松 《等离子体科学与技术:英文版》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第4期68-75,共8页
He-charged oxide dispersion strengthened(ODS)FeCrNi films were prepared by a radiofrequency(RF)plasma magnetron sputtering method in a He and Ar mixed atmosphere at150℃.As a comparison,He-charged FeCrNi films were al... He-charged oxide dispersion strengthened(ODS)FeCrNi films were prepared by a radiofrequency(RF)plasma magnetron sputtering method in a He and Ar mixed atmosphere at150℃.As a comparison,He-charged FeCrNi films were also fabricated at the same conditions through direct current(DC)plasma magnetron sputtering.The doping of He atoms and Y_2O_3 in the FeCrNi films was realized by the high backscattered rate of He ions and Y_2O_3/FeCrNi composite target sputtering method,respectively.Inductive coupled plasma(ICP)and x-ray photoelectron spectroscopy(XPS)analysis confirmed the existence of Y_2O_3 in FeCrNi films,and Y_2O_3 content hardly changed with sputtering He/Ar ratio.Cross-sectional scanning electron microscopy(SEM)shows that the FeCrNi films were composed of dense columnar nanocrystallines and the thickness of the films was obviously dependent on He/Ar ratio.Nanoindentation measurements revealed that the FeCrNi films fabricated through DC/RF plasma magnetron sputtering methods exhibited similar hardness values at each He/Ar ratio,while the dispersion of Y_2O_3 apparently increased the hardness of the films.Elastic recoil detection(ERD)showed that DC/RF magnetron sputtered FeCrNi films contained similar He amounts(~17 at.%).Compared with the minimal change of He level with depth in DC-sputtered films,the He amount decreases gradually in depth in the RF-sputtered films.The Y_2O_3-doped FeCrNi films were shown to exhibit much smaller amounts of He owing to the lower backscattering possibility of Y_2O_3 and the inhibition effect of nano-sized Y_2O_3 particles on the He element. 展开更多
关键词 射频等离子体 磁控溅射法 镍薄膜 ODS 制备 纳米Y2O3 X射线光电子能谱 射频磁控溅射方法
Cleaning of carbon-contaminated optics using O2/Ar plasma 预览
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作者 Yi-Fei Zhang Hong-Xin Luo +3 位作者 Zhi Guo Xiang-Jun Zhen Ming Chen Jun-Nan Liu 《核技术:英文版》 SCIE CAS CSCD 2017年第9期16-20,共5页
污染碳的 beamline 光学清洗被 RF 血浆分泌物过程用 O <sub>2</sub>/Ar 学习。碳涂的样品被准备,并且通过他们的清洗进程,钥匙参数是坚定的,混合 O <sub>2</sub>/Ar, 和房间真空的率,例如最佳的 RF 输出... 污染碳的 beamline 光学清洗被 RF 血浆分泌物过程用 O <sub>2</sub>/Ar 学习。碳涂的样品被准备,并且通过他们的清洗进程,钥匙参数是坚定的,混合 O <sub>2</sub>/Ar, 和房间真空的率,例如最佳的 RF 输出力量。考虑在清洗 beamline 光学对可能的不利效果被做,例如比较在清洗,和电报屏蔽上的可能的有害运动效果前后的样品的粗糙。在清洗下面,在 beamline 光子流动清洗 beamline 光学,移开的碳电影的厚度和变化的参数被分析。 展开更多
关键词 等离子体清洗 光学参数 碳污染 射频等离子体 表面粗糙度 动力学效应 光束线
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Repetitive cleaning of a stainless steel first mirror using radio frequency plasma
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作者 彭姣 鄢容 +3 位作者 丁锐 陈俊凌 朱大焕 张增明 《等离子体科学与技术:英文版》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第10期83-90,共8页
First mirrors(FMs) are crucial components of optical diagnostic systems in present-day tokamaks and future fusion reactors. Their lifetimes should be extremely limited due to their proximity to burning plasma, greatly... First mirrors(FMs) are crucial components of optical diagnostic systems in present-day tokamaks and future fusion reactors. Their lifetimes should be extremely limited due to their proximity to burning plasma, greatly influencing the safe operation of corresponding diagnostics.Repetitive cleaning is expected to provide a solution to the frequent replacement of contaminated FMs, thus prolonging their lifetimes. Three repetitive cleaning cycles using radio frequency plasma were applied to stainless steel(SS) FM samples, to evaluate the change of the mirrors' optical properties and morphology during each cycle. Amorphous carbon films were deposited on mirror surfaces under identical conditions in three cycles. In three cycles with identical cleaning parameters, the total reflectivity was restored at up to 95%. Nevertheless, with successive cleaning cycles, the FM surfaces gradually appeared to roughen due to damage to the grain boundaries. Correspondingly, the diffuse reflectivity increased from a few percent to 20%and 27% after the second and third cycles. After optimizing the cleaning parameters of the second and third cycles, the roughness showed a significant decrease, and simultaneously the increase of diffuse reflectivity was remarkably improved. 展开更多
关键词 射频等离子体 清洗参数 不锈钢 托卡马克装置 漫反射率 诊断系统 光学性能
One-step phenol production from a water–toluene mixture using radio frequency in-liquid plasma
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作者 Muhammad AGUNG Shinfuku NOMURA +3 位作者 Shinobu MUKASA Hiromichi TOYOTA Otsuka KAZUHIKO Hidekazu GOTO 《等离子体科学与技术:英文版》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第5期60-67,共8页
The objectives of this research were to understand the process of converting toluene into phenol in a one-step process directly from a water–toluene mixture using the plasma in-liquid method.Experiments were conducte... The objectives of this research were to understand the process of converting toluene into phenol in a one-step process directly from a water–toluene mixture using the plasma in-liquid method.Experiments were conducted using 27.12 MHz radio frequency(RF) in-liquid plasma to decompose a solution of 30% toluene. Based on the experimental results as evaluated using gas chromatography–mass spectrometry(GC–MS), along with additional analysis by the Gaussian calculation, density functional theory(DFT) hybrid exchange–correlational functional(B3LYP)and 6-311 G basis, the phenol generated from toluene was quantified including any by-products.In the experiment, it was found that OH radicals from water molecules produced using RF inliquid plasma play a significant role in the chemical reaction with toluene. The experimental results suggest that phenol can be directly produced from a water–toluene mixture. The maximum phenol yields were 0.0013% and 0.0038% for irradiation times of 30s and 60s,respectively, at 120 W. 展开更多
关键词 射频等离子体 甲苯溶液 水分子 混合物 苯酚 密度泛函理论 气相色谱质谱法 无线电频率
极板间距对DLC薄膜拉曼光谱的影响 预览
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作者 任瑛 王明超 《材料科学》 2017年第3期387-394,共8页
采用射频等离子增强化学气相沉积法(RF-PECVD),使用CH4和H2作为气源,通过改变极板间距,在Si(100)衬底上制备类金刚石(DLC)膜。采用拉曼光谱表征DLC薄膜的微观结构,结果表明,制备的薄膜中含有sp3、sp2杂化碳键,具有典型的类金刚石结构特... 采用射频等离子增强化学气相沉积法(RF-PECVD),使用CH4和H2作为气源,通过改变极板间距,在Si(100)衬底上制备类金刚石(DLC)膜。采用拉曼光谱表征DLC薄膜的微观结构,结果表明,制备的薄膜中含有sp3、sp2杂化碳键,具有典型的类金刚石结构特征,且以六方或菱方结构存在。通过分峰及计算表明:G峰位置和ID/IG值不断上升的趋势说明薄膜和衬底之间的应力逐渐改变,薄膜中六角碳环结构的含量随着极板间距的上升而不断增加;随着极板间距在8~17 cm范围内的增大,sp3键的含量在0%~20%范围内先减少后增加。 展开更多
关键词 射频等离子体 类金刚石薄膜 拉曼光谱 极板间距
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射频等离子体球化系统参数对制备球形Al2O3的影响
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作者 代珍 曹永革 +6 位作者 麻朝阳 唐飞 张建涛 王文超 杜苗苗 龙嘉奇 袁轩一 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期333-338,共6页
以不规则Al2O3粉体为原料,采用TEKNA射频感应等离子体球化设备SY119-30kW制备不同粒度的(7,30,75μm)微细球形Al2O3粉体,并研究了主要操作参数的影响。结果表明不同的探针轴向位置对球化效果有较大的影响,必须保证针尖在等离子体中心... 以不规则Al2O3粉体为原料,采用TEKNA射频感应等离子体球化设备SY119-30kW制备不同粒度的(7,30,75μm)微细球形Al2O3粉体,并研究了主要操作参数的影响。结果表明不同的探针轴向位置对球化效果有较大的影响,必须保证针尖在等离子体中心位置,即Z=12.9cm。等离子球化工艺制备的Al2O3粉体不仅表面光滑,而且球形度高,致密度高,流动性好。在反应腔体压力为负压P=0.079 MPa的情况下,送分速率为65 g/min时,粉体球化率可以达到100%;反应腔室的压力对球化效果的影响较大,其必须与载气流量保持协调。经XRD物相分析可知,分别采用Ar或者N2为鞘气都可以得到相同的物质组成,高温下N2并没有使Al2O3氮化。同时,等离子体球化具有提纯的作用,球化后的粉体纯度得到改善。 展开更多
关键词 AL2O3粉 射频等离子体 球化效果 球形度 制备 系统 操作参数 轴向位置
Influence of Chemical Precleaning on the Plasma Treatment Efficiency of Aluminum by RF Plasma Pencil
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作者 Vadym PRYSIAZHNYI Pavel SLAVICEK +1 位作者 Eliska MIKMEKOVA Milos KLIMA 《等离子体科学与技术:英文版》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第4期430-437,共8页
This paper is aimed to show the influence of initial chemical pretreatment prior to subsequent plasma activation of aluminum surfaces.The results of our study showed that the state of the topmost surface layer(i.e.th... This paper is aimed to show the influence of initial chemical pretreatment prior to subsequent plasma activation of aluminum surfaces.The results of our study showed that the state of the topmost surface layer(i.e.the surface morphology and chemical groups)of plasma modified aluminum significantly depends on the chemical precleaning.Commonly used chemicals(isopropanol,trichlorethane,solution of Na OH in deionized water)were used as precleaning agents.The plasma treatments were done using a radio frequency driven atmospheric pressure plasma pencil developed at Masaryk University,which operates in Ar,Ar/O2 gas mixtures.The effectiveness of the plasma treatment was estimated by the wettability measurements,showing high wettability improvement already after 0.3 s treatment.The effects of surface cleaning(hydrocarbon removal),surface oxidation and activation(generation of OH groups)were estimated using infrared spectroscopy.The changes in the surface morphology were measured using scanning electron microscopy.Optical emission spectroscopy measurements in the near-to-surface region with temperature calculations showed that plasma itself depends on the sample precleaning procedure. 展开更多
关键词 等离子体处理 化学前处理 射频等离子体 铝表面 铅笔 大气压等离子体 扫描电子显微镜 光谱测量
Experimental Investigation on Electromagnetic Attenuation by Low Pressure Radio-Frequency Plasma for Cavity Structure 被引量:1
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作者 何湘 张亚春 +4 位作者 陈建平 陈玉东 曾小军 姚洪 唐春梅 《等离子体科学与技术:英文版》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第1期62-66,共5页
This paper reports on an experiment designed to test electromagnetic(EM)attenuation by radio-frequency(RF)plasma for cavity structures.A plasma reactor,in the shape of a hollow cylinder,filled with argon gas at lo... This paper reports on an experiment designed to test electromagnetic(EM)attenuation by radio-frequency(RF)plasma for cavity structures.A plasma reactor,in the shape of a hollow cylinder,filled with argon gas at low pressure,driven by a RF power source,was produced by wave-transmitting material.The detailed attenuations of EM waves were investigated under different conditions:the incident frequency is 1-4 GHz,the RF power supply is 13.56 MHz and1.6-3 k W,and the argon pressure is 75-200 Pa.The experimental results indicate that 5-15 d B return loss can be obtained.From a first estimation,the electron density in the experiment is approximately(1.5-2.2)×1016m-3and the collision frequency is about 11-30 GHz.The return loss of EM waves was calculated using a finite-difference time-domain(FDTD)method and it was found that it has a similar development with measurement.It can be confirmed that RF plasma is useful in the stealth of cavity structures such as jet-engine inlet. 展开更多
关键词 射频等离子体 实验测试 衰减特性 空腔结构 电磁波 低压 时域有限差分方法 等离子体反应器
射频等离子体处理对氧化石墨烯的影响 预览
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作者 刘佳 杨林燊 +1 位作者 莫华兴 马禹更 《大连民族大学学报》 2016年第3期226-229,共4页
分别使用氢气和氩气射频等离子体放电处理氧化石墨烯溶液,快速的对氧化石墨烯进行还原,同时得到了三维多孔的表面形貌。结果显示,还原性气体(氢气)对氧化石墨烯的还原程度高于惰性气体(氩气)对其的还原;通过改变射频等离子体的... 分别使用氢气和氩气射频等离子体放电处理氧化石墨烯溶液,快速的对氧化石墨烯进行还原,同时得到了三维多孔的表面形貌。结果显示,还原性气体(氢气)对氧化石墨烯的还原程度高于惰性气体(氩气)对其的还原;通过改变射频等离子体的放电功率,表明放电功率越大,氧化石墨烯的还原程度越高。用射频等离子体还原氧化石墨烯,方法更有效且环境友好,处理后得到的三维多孔形貌的还原氧化石墨烯有望进一步应用于超级电容器、锂电池、传感器等领域。 展开更多
关键词 氧化石墨烯 还原 射频等离子体
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射频等离子硫钝化GaAs(100)的表面特性 预览 被引量:1
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作者 许留洋 高欣 +4 位作者 袁绪泽 夏晓宇 曹曦文 乔忠良 薄报学 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期556-560,共5页
采用射频等离子方法,对Ga As(100)衬底片表面进行干法硫等离子体钝化,旨在得到性能稳定含硫钝化层。样品经过360℃温度条件下的快速热退火,光致发光(PL)测试表明,钝化后的样品PL强度上升了71%。同时,钝化样品的稳定性测试结果表明,... 采用射频等离子方法,对Ga As(100)衬底片表面进行干法硫等离子体钝化,旨在得到性能稳定含硫钝化层。样品经过360℃温度条件下的快速热退火,光致发光(PL)测试表明,钝化后的样品PL强度上升了71%。同时,钝化样品的稳定性测试结果表明,样品放置在实验室空气中30 d,其PL强度未出现明显变化,说明Ga As的等离子体干法硫钝化具有较好的性能稳定性。 展开更多
关键词 射频等离子体 光致发光 钝化 GAAS
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低风速下射频等离子体的辉光放电特性 被引量:4
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作者 张耘玮 王卫民 +3 位作者 贾敏 宋慧敏 王蔚龙 李应红 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期1962-1968,共7页
为研究射频等离子体辉光放电特性与风速、气压之间的关系,以等离子体风速传感器为研究背景,建立了射频等离子体辉光放电实验系统,研究了激励器在不同放电间距(0.05 mm和0.08 mm)、不同来流速度(0-45 m/s)、不同电源输出功率(10 W和... 为研究射频等离子体辉光放电特性与风速、气压之间的关系,以等离子体风速传感器为研究背景,建立了射频等离子体辉光放电实验系统,研究了激励器在不同放电间距(0.05 mm和0.08 mm)、不同来流速度(0-45 m/s)、不同电源输出功率(10 W和20 W)和不同气压(50-100 k Pa)下的放电特性。结果表明:电极间距越小,射频等离子体辉光放电稳定性越高;在固定的电源输出功率和工作频率下,发现了激励器负载电压与来流速度关系的3个阶段:电极过热阶段、线性阶段和放电不稳定阶段;在不同的电源输出功率下,对应不同的风速范围,激励器负载电压与风速具有良好的线性关系;在亚音速气流对应的静压(总压为大气压)范围内,射频等离子体辉光放电对气压变化不敏感。 展开更多
关键词 射频等离子体 辉光放电 风速 风速传感器 放电特性 气压
等离子体表面改性协同静电喷雾在车饰毛织物疏水整理中的应用 预览 被引量:2
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作者 周惠敏 谢婷婷 +1 位作者 李智勇 夏鑫 《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第8期89-93,共5页
为寻求更为环保的方式对羊毛/羊绒车饰品进行疏水整理,利用射频低温等离子体协同静电喷雾技术对织物进行疏水整理。通过扫描电镜观察了织物原样、等离子体处理织物、静电喷雾疏水织物和等离子体处理后静电喷雾疏水织物4种样品的表面形... 为寻求更为环保的方式对羊毛/羊绒车饰品进行疏水整理,利用射频低温等离子体协同静电喷雾技术对织物进行疏水整理。通过扫描电镜观察了织物原样、等离子体处理织物、静电喷雾疏水织物和等离子体处理后静电喷雾疏水织物4种样品的表面形貌变化,采用动态接触角测量仪测试了4种样品的黏附力、静态接触角和动态接触角。结果表明:由于等离子体处理对织物表面的刻蚀作用,使后续选用静电喷雾整理的疏水剂能更有效且均匀地吸附于纤维表面;等离子体处理使织物表面黏附力提高至98.39μN,静态接触角减小至107.9°,接触角滞后增加至83.39°;等离子体处理协同静电喷雾疏水整理的织物具有最低的黏附力及接触角滞后,且织物透气率和透湿率仅分别下降了2.9 mm/s和384 g/(m2·d),说明等离子体表面改性协同静电喷雾疏水整理具有可行性。 展开更多
关键词 射频等离子体 静电喷雾 疏水整理 车饰毛织物
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射频等离子体球化处理氢化钕铁硼粉末 预览
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作者 毛瑞奇 郝俊杰 +2 位作者 郭志猛 舒进锋 王建军 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 北大核心 2016年第3期475-481,共7页
利用氩气射频等离子体球化处理形状不规则的氢化钕铁硼粉末。采用扫描电子显微镜、能谱仪、X线衍射仪、激光粒度分析仪对射频等离子体处理前后粉末颗粒的形貌、元素分布、物相、粒度分布进行测试和分析。结果表明:不规则形状的氢化钕... 利用氩气射频等离子体球化处理形状不规则的氢化钕铁硼粉末。采用扫描电子显微镜、能谱仪、X线衍射仪、激光粒度分析仪对射频等离子体处理前后粉末颗粒的形貌、元素分布、物相、粒度分布进行测试和分析。结果表明:不规则形状的氢化钕铁硼粉末的脱氢分解和球化过程可在等离子体中一步完成,得到球形度高、分散性好、球化率接近100%的球形粉末。球形粉末较氢化钕铁硼原料粉末,粒度分布明显变窄,平均粒度稍有减小。球形粉末的相组成主要为Nd2Fe(17)(B)和α-Fe。元素分布测试表明,经射频等离子体处理获得的球形粉末有轻微的元素偏析。随载气流量增加,粉末的球化率降低。结合FLUENT数值模拟分析得出载气流量的变化对等离子体炬的温度场有很大影响。 展开更多
关键词 射频等离子体 氢化钕铁硼 球化 数值模拟
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Nano-Crystalline Diamond Films Grown by Radio-Frequency InductiVely Coupled Plasma Jet Enhanced Chemical Vapor Deposition
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作者 石彦超 李佳君 +5 位作者 刘浩 左勇刚 白旸 孙占峰 马殿礼 陈广超 《中国物理快报:英文版》 SCIE CAS CSCD 2015年第8期177-180,共4页
关键词 等离子体增强化学气相沉积法 纳米金刚石薄膜 金刚石生长 射频感应耦合 等离子体射流 射频等离子体 光学发射光谱 等离子体密度
Spheroidization of molybdenum powder by radio frequency thermal plasma 预览 被引量:1
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作者 Xiao-ping Liu Kuai-she Wang +2 位作者 Ping Hu Qiang Chen Alex A.Volinsky 《矿物冶金与材料学报:英文版》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第11期1212-1218,共7页
为了控制形态学和稠密的球形的铝粉末的粒子尺寸,作为一位先锋从不规则的铝粉末由收音机频率(RF ) 准备了血浆,血浆进程参数在这份报纸被优化。在最后的产品的形状和尺寸上喂率的搬运人气体流动率和铝粉末的效果被学习。铝粉末形态学... 为了控制形态学和稠密的球形的铝粉末的粒子尺寸,作为一位先锋从不规则的铝粉末由收音机频率(RF ) 准备了血浆,血浆进程参数在这份报纸被优化。在最后的产品的形状和尺寸上喂率的搬运人气体流动率和铝粉末的效果被学习。铝粉末形态学用高分辨率的扫描电子显微镜学被检验。粉末阶段被 X 光检查衍射分析。龙头密度和铝粉末的明显的密度用一霍尔流动米和斯哥特体积计被调查。为球形的铝粉末准备的最佳的过程参数是喂率和 0.6 m <sup>3</sup>/h 搬运人气体的 50 g/min 粉末率。另外,纯球形的铝粉末能从不规则的粉末被获得,并且龙头密度在血浆处理以后被提高。平均尺寸从 72 ~ 62 被减少吗?? 展开更多
关键词 射频等离子体 钼粉 最佳工艺参数 X射线衍射分析 球形粉 球化 等离子体处理 载气流量
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