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基于高光谱成像和模式识别的无损检测苹果表面损伤
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作者 孟庆龙 张艳 尚静 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期266-271,共6页
为了实现苹果表面损伤的快速无损检测,基于高光谱成像技术结合模式识别算法建立了苹果表面损伤检测模型。首先,利用高光谱图像采集系统采集完好无损和表面损伤苹果样本的高光谱图像,提取正常区域和损伤区域的平均光谱反射率曲线;然后,... 为了实现苹果表面损伤的快速无损检测,基于高光谱成像技术结合模式识别算法建立了苹果表面损伤检测模型。首先,利用高光谱图像采集系统采集完好无损和表面损伤苹果样本的高光谱图像,提取正常区域和损伤区域的平均光谱反射率曲线;然后,采用标准正态变换(SNV)和多元散射校正(MSC)分别对原始光谱数据进行预处理;最后,利用偏最小二乘判别分析(PLS-DA)方法,建立了苹果表面损伤 SNV+PLS-DA和MSC+PLS-DA检测模型。结果表明:采用SNV和MSC光谱预处理方法可有效地消除高光谱图像中的噪声;利用SNV+PLS-DA检测模型对校正集和检验集样本的正确识别率分别为 70.8%和 77.5%,而采用MSC+PLS-DA检测模型对校正集和检验集样本的正确识别率分别为71.7%和77.5%。因此,基于高光谱成像技术结合模式识别方法,可实现苹果表面损伤的无损检测。 展开更多
关键词 高光谱成像 模式识别 苹果表面损伤 无损检测
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