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SIFSIX-3-Ni膜的制备及氢气分离性质 预览
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作者 穆鑫 姜双双 +2 位作者 张舒皓 任浩 孙福兴 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期1818-1824,共7页
利用(NH4)2SiF6修饰大孔玻璃基底后,在溶剂热条件下制备了SIFSIX-3-Ni膜,并研究了温度和浓度对制备SIFSIX-3-Ni膜的影响.能谱分析(XPS)结果表明大孔玻璃表面引入了氟元素. SIFSIX-3-Ni膜的粉末X射线衍射(PXRD)峰位置和模拟结果一致,表... 利用(NH4)2SiF6修饰大孔玻璃基底后,在溶剂热条件下制备了SIFSIX-3-Ni膜,并研究了温度和浓度对制备SIFSIX-3-Ni膜的影响.能谱分析(XPS)结果表明大孔玻璃表面引入了氟元素. SIFSIX-3-Ni膜的粉末X射线衍射(PXRD)峰位置和模拟结果一致,表明成功制备出SIFSIX-3-Ni膜.从扫描电子显微镜(SEM)照片中观察到膜连续均匀,厚度约为20μm.热重分析(TGA)结果表明,活化前的膜没有客体分子.单组分测试结果表明,膜的H2, CO2和N2渗透量分别为6.83×10^-6, 7.42×10^-7和8.89×10^-7 mol·m^-2·s^-1·Pa^-1, H2/CO2和H2/N2的理想分离比分别为9.20和7.68.在连续测试5 h后, H2, CO2和N2渗透量基本保持不变,表明SIFSIX-3-Ni膜具有很好的稳定性. 展开更多
关键词 SIFSIX-3-Ni多晶 原位生长法 氢气分离
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