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Development and Prospect of Process Models and Simulation Methods for Atomic Layer Deposition 预览
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作者 Lei Qu Rui Chen +5 位作者 Xiaoting Li Jing Zhang Yanrong Wang Shuhua Wei Jiang Yan Yayi Wei 《微电子制造学报》 2019年第2期26-38,共13页
Thin film deposition is one of the most important processes in IC manufacturing. In this paper, several typical models and numerical simulation methods for thin film deposition and atomic layer deposition are introduc... Thin film deposition is one of the most important processes in IC manufacturing. In this paper, several typical models and numerical simulation methods for thin film deposition and atomic layer deposition are introduced. Several modeling methods based on the characteristics of atomic layer deposition are introduced, it includes geometric method, cellular automata and multiscale simulation. The principle of each model and simulation method is explained, and their advantages and disadvantages are analyzed. Finally, the development direction of thin film deposition and atomic layer deposition modeling is prospected, and some modeling ideas are also provided. 展开更多
关键词 THIN film DEPOSITION ATOMIC LAYER DEPOSITION growth MODEL prediction MODEL simulation method
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工作压强对PECVD法制备DLC薄膜微观结构与力学性能的影响
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作者 李瑞武 周艳文 +3 位作者 李建伟 范巍 郭媛媛 吴法宇 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2019年第1期162-167,共6页
采用脉冲等离子体增强化学气相沉积方法(Pulse-PECVD)于316L不锈钢基体上制备类金刚石(DLC)薄膜,研究不同工作气压对DLC薄膜的沉积速率、表面形貌、微观结构、纳米硬度、弹性模量以及结合强度的影响规律。结果表明:随沉积气压增大,薄膜... 采用脉冲等离子体增强化学气相沉积方法(Pulse-PECVD)于316L不锈钢基体上制备类金刚石(DLC)薄膜,研究不同工作气压对DLC薄膜的沉积速率、表面形貌、微观结构、纳米硬度、弹性模量以及结合强度的影响规律。结果表明:随沉积气压增大,薄膜的沉积速率随之增大,压强在3 Pa时沉积速率可高达1. 4μm/h;不同气压下沉积的DLC薄膜均体现出平整光滑的表面形貌和高于不锈钢基体3倍以上的纳米硬度;沉积气压为2 Pa时,DLC薄膜在拉曼光谱中具有最小的ID/IG值,对应最高的纳米硬度16. 1 GPa和弹性模量152. 7 GPa,以及最低的粗糙度和摩擦因数0. 206。 展开更多
关键词 脉冲等离子体增强化学气相沉积 DLC薄膜 工作压强 拉曼光谱 力学性能
基体负偏压及占空比对电弧离子镀CrN薄膜表面大颗粒和厚度的影响 预览
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作者 郭朝乾 林松盛 +6 位作者 石倩 韦春贝 李洪 苏一凡 唐鹏 汪唯 代明江 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2019年第13期668-673,共6页
采用电弧离子镀技术在Si基体上沉积了CrN薄膜。利用扫描电镜观察薄膜的表面和截面形貌,通过Image-ProPlus图像处理软件统计扫描电镜图像中大颗粒所占比例及密度。研究了基体负偏压和脉冲占空比对CrN薄膜表面大颗粒和厚度的影响。结果表... 采用电弧离子镀技术在Si基体上沉积了CrN薄膜。利用扫描电镜观察薄膜的表面和截面形貌,通过Image-ProPlus图像处理软件统计扫描电镜图像中大颗粒所占比例及密度。研究了基体负偏压和脉冲占空比对CrN薄膜表面大颗粒和厚度的影响。结果表明,基体负偏压从零升高至500V时,薄膜表面大颗粒的占比和密度均不断下降,沉积速率降低;脉冲占空比从15%升高至75%时,薄膜表面大颗粒的占比先增加,而后在一定范围内波动,大颗粒密度则先增加后下降。脉冲占空比为15%时,大颗粒占比和密度均较低;脉冲占空比为75%时,大颗粒在薄膜表面的占比最高,但密度最低,表明此时大颗粒的尺寸较大。 展开更多
关键词 氮化铬 薄膜 电弧离子镀 基体负偏压 占空比 表面形貌 沉积速率
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碳氧化硅过渡层对玻璃基DLC薄膜性能的影响 预览
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作者 常潇 赵青南 +3 位作者 王晓宏 陆文涛 董玉红 赵杰 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2019年第10期3033-3039,共7页
采用射频-直流磁控溅射法,首先通过不同沉积时间在普通玻璃基底表面得到了不同厚度的碳氧化硅过渡层,然后在过渡层上沉积DLC薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、全自动显微硬度仪、紫... 采用射频-直流磁控溅射法,首先通过不同沉积时间在普通玻璃基底表面得到了不同厚度的碳氧化硅过渡层,然后在过渡层上沉积DLC薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、共焦显微拉曼光谱仪(Raman)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、全自动显微硬度仪、紫外可见分光光度计,研究了不同沉积时间下碳氧化硅层对DLC薄膜的结构组成、表面形貌、表面硬度、可见光区域内透过率性能的影响。结果表明,随着沉积碳氧化硅层时间的增加,DLC薄膜样品硬度先增大后减小,可见光区平均透过率逐渐下降;当沉积过渡层时间为5 min时,DLC薄膜样品的玻璃硬度值最大(795 HV),相比未镀膜的玻璃基片(610 HV),硬度值增加了30. 33%,可见光区域内平均透过率为58. 47%。 展开更多
关键词 DLC薄膜 硬度 沉积时间 碳氧化硅过渡层 平均透过率
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Formation of Zr-contained Amorphous Alloy Films by Magnetron Co-sputtering
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作者 牛玉超 GUO Lingyu +2 位作者 ZHENG Yongtai MA Haijian 王伟民 《武汉理工大学学报:材料科学英文版》 SCIE EI CAS 2019年第3期662-667,共6页
In order to explore the application of magnetron co-sputtering in fabricating the amorphous alloy, Zr-contained amorphous films were prepared by this technique and investigated by scanning electron microscope, energy ... In order to explore the application of magnetron co-sputtering in fabricating the amorphous alloy, Zr-contained amorphous films were prepared by this technique and investigated by scanning electron microscope, energy disperse spectroscopy and X-ray diffraction. The results show that the co-sputtered films are in fully amorphous state or with amorphous-nanocrystal 1 ine structure. The XRD patterns of the Zr-Cu and Zr-Ni amorphous films exhibit a double-peak phenomenon. There is a shift of diffusive peak with changing the sputtering current which is possibly attributed to the change of Zr-Ni and Zr-Cu intermetallic like short range orders. In addition, Zr-Cu-Ni ternary co-sputtered films have a sharper peak at high angle. The sputtering yield of element during co-sputtering ranks as Cu>Ni>Zr, which can be ascribed to the contribution of melting and boiling temperature, atomic size and electrical conductivity of elements. 展开更多
关键词 AMORPHOUS film co-sputtering DEPOSITION SHORT-RANGE order
Tunable superconductivity in parent cuprate Pr2CuO4±δ thin films
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作者 魏鑫健 何格 +6 位作者 胡卫 张旭 秦明阳 袁洁 朱北沂 林媛 金魁 《中国物理B:英文版》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第5期276-281,共6页
We studied the role of oxygen in Pr2CuO4±δ thin films fabricated by the polymer assisted deposition method.The magnetoresistance and Hall resistivity of Pr2CuO4±δ samples were systematically investigated.I... We studied the role of oxygen in Pr2CuO4±δ thin films fabricated by the polymer assisted deposition method.The magnetoresistance and Hall resistivity of Pr2CuO4±δ samples were systematically investigated.It was found that with decreasing oxygen content,the low-temperature Hall coefficient (RH) and magnetoresistance changed from negative to positive,similar to those with the increase of Ce-doped concentration in R2-xCexCuO4 (R = La,Nd,Pr,Sm,Eu).In addition,we observed that the dependence of the superconducting critical temperature Tc with RH for the Pr2-xCexCuO4 perfectly overlapped with that of Pr2CuO4±δ.These findings point to the fact that the doped electrons induced by the oxygen removal are responsible for the superconductivity of the T0-phase parent compounds. 展开更多
关键词 Pr2CuO4±δ THIN film SUPERCONDUCTIVITY polymer assisted DEPOSITION
硅薄膜的制备工艺参数及材料性能 预览
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作者 张小亮 王兆希 《北京工业职业技术学院学报》 2019年第4期9-12,共4页
用化学沉积法制备硅薄膜时影响成膜质量和速度的因素非常复杂,主要包括气体浓度、流速、温度、压力等,通过研究掺杂气体浓度比例和温度对硅薄膜的成膜质量和成膜速度的影响可知,在一定范围内随着掺杂气体比例的增加成膜速度降低;在其他... 用化学沉积法制备硅薄膜时影响成膜质量和速度的因素非常复杂,主要包括气体浓度、流速、温度、压力等,通过研究掺杂气体浓度比例和温度对硅薄膜的成膜质量和成膜速度的影响可知,在一定范围内随着掺杂气体比例的增加成膜速度降低;在其他参数确定时,随着温度的升高,成膜速度提高,孔隙率先降低后增加,即硅薄膜质量先变好再变差。900℃沉积的硅薄膜相对光滑,有一定的致密度,硅薄膜质量较好。实验结果表明:较佳的实验参数为较低的掺杂气体,沉积温度设定在850℃~950℃成膜质量较好。 展开更多
关键词 硅薄膜 工艺参数 温度 沉积速度 表面质量
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沉积环境下气膜冷却效率的实验
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作者 杨晓军 于天浩 +1 位作者 崔莫含 刘智刚 《北京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第8期1681-1690,共10页
为了研究燃气涡轮叶片表面污染物沉积对气膜冷却的影响,通过将熔融石蜡喷入到小型风洞中,来模拟真实涡轮中的污染物,用平板近似代替涡轮叶片,在高温主流和低温冷流掺混的情况下,观察不同孔径和粗糙度对实验件表面颗粒物沉积的影响,以及... 为了研究燃气涡轮叶片表面污染物沉积对气膜冷却的影响,通过将熔融石蜡喷入到小型风洞中,来模拟真实涡轮中的污染物,用平板近似代替涡轮叶片,在高温主流和低温冷流掺混的情况下,观察不同孔径和粗糙度对实验件表面颗粒物沉积的影响,以及在石蜡沉积后气膜冷却效果的变化趋势。结果表明,相同实验条件下,随着孔径的增大,气膜冷却效率逐渐增大,孔径为10 mm时的冷却效率比5 mm时的高6%左右,同时,平板表面的石蜡沉积逐渐减少,厚度相差0. 15~0. 20 mm;随着平板表面粗糙度的增加,气膜冷却效率逐渐下降,而石蜡沉积逐渐增多;较石蜡颗粒沉积前,沉积后的气膜冷却效率有较大的下降,效率相差5%左右。 展开更多
关键词 气膜冷却 沉积 孔径 粗糙度 平板
铝合金表面微弧氧化涂层制备的影响因素 预览
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作者 陈转 周帆 +2 位作者 蒋秋娥 岳坤 樊建锋 《新技术新工艺》 2019年第6期27-29,共3页
微弧氧化技术是铝合金材料表面改性的一项重要技术。通过微等离子体的高温高压作用,使所生成的微弧氧化膜具有膜层厚、硬度高、耐磨、耐蚀、耐压绝缘以及抗高温冲击等优异特性,在军事、航天、航空、纺织、机械、汽车、石油、化工及医疗... 微弧氧化技术是铝合金材料表面改性的一项重要技术。通过微等离子体的高温高压作用,使所生成的微弧氧化膜具有膜层厚、硬度高、耐磨、耐蚀、耐压绝缘以及抗高温冲击等优异特性,在军事、航天、航空、纺织、机械、汽车、石油、化工及医疗等工业部门有着广阔的应用前景,特别适用于高速运转且有耐磨要求的铝合金零件的表面处理;因此,铝合金表面微弧氧化涂层制备影响因素的研究和分析对铝合金材料表面改性结果的影响与发展有重大意义。在总结铝合金表面微弧氧化涂层制备的影响因素的基础上,分析讨论了不同因素对铝合金表面微弧氧化涂层制备的影响。通过选择合理的工艺参数可以获得综合性能良好的陶瓷膜层。 展开更多
关键词 铝合金 微弧氧化 陶瓷膜层 摩擦学性能 添加剂 沉积基体
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氢气流量对大面积金刚石膜沉积的影响 预览 被引量:3
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作者 孙祁 汪建华 +1 位作者 刘繁 翁俊 《中国表面工程》 CSCD 北大核心 2018年第2期75-84,共10页
为了实现大面积金刚石膜的高速均匀沉积,在新型多模微波等离子体装置中,利用微波等离子体(Microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术,对大面积金刚石膜沉积过程中气体流场、电子密度和温度、基团分布及金刚石膜质量进... 为了实现大面积金刚石膜的高速均匀沉积,在新型多模微波等离子体装置中,利用微波等离子体(Microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术,对大面积金刚石膜沉积过程中气体流场、电子密度和温度、基团分布及金刚石膜质量进行研究。流场模拟结果表明,多模MPCVD装置在高气体流量下依旧保持良好的流场稳定性。等离子体光谱结果表明,随着氢气流量的上升活性基团的强度上升。氢气流量在400 cm^3/min以内时,活性基团可在基底表面对称均匀分布。电子密度和电子温度随着氢气流量的上升先上升后下降,在500 cm3/min达到最大,分别为2.3×1019/m^3和1.65 eV。在氢气流量为300 cm^3/min时可在直径为100 mm的钼基底上实现大面积金刚石膜的均匀沉积,金刚石膜中心和边缘处拉曼光谱FWHM值为4.39 cm^-1和4.51 cm^-1,生长速率为5.8μm/h。 展开更多
关键词 微波等离子体化学气相沉积 等离子体光谱 金刚石膜 大面积 均匀沉积
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电弧离子沉积钽膜及微结构研究 预览
11
作者 陈大军 李忠盛 +3 位作者 吴护林 陈汉宾 丛大龙 何庆兵 《表面技术》 CSCD 北大核心 2018年第7期246-251,共6页
目的研究电弧离子沉积钽膜的沉积工艺及微观结构,分析钽膜生长机理。方法采用电弧离子沉积法在石墨基体上沉积钽膜,研究了沉积工艺(如弧电流、负偏压等参数)对钽膜的物相组成、沉积速率、表面形貌的影响。结果电弧离子沉积钽膜的物相由... 目的研究电弧离子沉积钽膜的沉积工艺及微观结构,分析钽膜生长机理。方法采用电弧离子沉积法在石墨基体上沉积钽膜,研究了沉积工艺(如弧电流、负偏压等参数)对钽膜的物相组成、沉积速率、表面形貌的影响。结果电弧离子沉积钽膜的物相由α-Ta相和极少量β-Ta相组成。弧电流、负偏压、靶间距等沉积参数对钽膜厚度、沉积速率和膜-基结合力的影响很大,在弧电流为220A、负偏压为300V、靶间距为200mm时,钽膜沉积速率为0.1μm/min,沉积速率适宜,膜-基结合力达到69N,结合力高。钽膜厚度均匀,在靠近基体侧形成了晶粒细小、组织致密的过渡层,厚度约0.6~0.9μm,其余为细小柱状晶结构。钽膜表面颗粒尺寸随负偏压的升高而减小,负偏压为300V时,颗粒尺寸细小均匀(仅3~5μm),钽膜表面无细小孔隙和裂纹。结论电弧离子沉积法可以在石墨基体上沉积出组织致密、厚度均匀且膜-基结合力高的钽膜。沉积初期主要通过沉积、移动、扩散等过程形成稳定核,随着沉积时间的延长,稳定核逐渐长大成岛,并在三维方向以岛状生长形成连续膜,为典型岛状生长模式。 展开更多
关键词 电弧离子沉积 钽膜 物相组成 沉积速率 膜层形貌 生长机理
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深紫外全介质反射式滤光膜的研究 预览 被引量:1
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作者 刘冬梅 黄宏 +2 位作者 付秀华 张静 张功 《光子学报》 CSCD 北大核心 2018年第10期110-116,共7页
选取Al2O3、AlF3两种材料,采用双面拆分法在JGS1基底上完成了深紫外波段高反射,近紫外到可见光波段高透射的全介质滤光膜的设计.研究了稳定控制AlF3蒸发速率的制备方法,验证了离子源辅助沉积技术对镀膜材料在紫外波段吸收的影响,建立了... 选取Al2O3、AlF3两种材料,采用双面拆分法在JGS1基底上完成了深紫外波段高反射,近紫外到可见光波段高透射的全介质滤光膜的设计.研究了稳定控制AlF3蒸发速率的制备方法,验证了离子源辅助沉积技术对镀膜材料在紫外波段吸收的影响,建立了膜层厚度与电子束蒸发特性的函数关系,借助软件模拟了误差的影响,并结合工艺技术的改进,有效提高了紫外光的利用率,最终研制的滤光膜在200~270nm平均反射率为77.96%,在290~700nm平均透过率为96.29%,满足使用需求. 展开更多
关键词 光学薄膜 滤光膜 拆分法 沉积 紫外探测
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磁控溅射法制备纳米铜膜及其电学性能研究 预览
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作者 刘飞 朱昊 +1 位作者 张勋泽 朴祥秀 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第6期23-29,共7页
实验通过控制镀膜温度、功率、压力和时间的工艺条件,采用磁控溅射法在玻璃基板表面沉积纳米Cu膜,利用XRD、SEM和四探针测试议测试分析研究了其晶体结构、形貌结构和电阻率。结果表明:随着镀膜温度的升高,薄膜内部晶界增多,导电性能基... 实验通过控制镀膜温度、功率、压力和时间的工艺条件,采用磁控溅射法在玻璃基板表面沉积纳米Cu膜,利用XRD、SEM和四探针测试议测试分析研究了其晶体结构、形貌结构和电阻率。结果表明:随着镀膜温度的升高,薄膜内部晶界增多,导电性能基本无差异,膜层均匀性变好。镀膜功率与晶粒尺寸两者之间呈正线性关系。与之相反,随着镀膜压力的增加,晶粒尺寸有轻微减小趋势。镀膜功率和压力与膜层均匀性都成非线性关系。随着镀膜时间的增加,膜厚与之成线性关系增加,晶粒尺寸基本不变,电阻率有减小趋势。镀膜温度、功率、压力和时间对成膜择优取向无显著影响。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 磁控溅射 铜膜 电阻率 择优取向 工艺条件
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气膜冷却平板表面颗粒物沉积的实验研究 被引量:2
14
作者 杨晓军 崔莫含 刘智刚 《推进技术》 CSCD 北大核心 2018年第6期1323-1330,共8页
为了解涡轮叶片表面颗粒物的沉积规律和沉积对气膜冷却的影响,实验通过石蜡喷涂装置将熔融石蜡颗粒喷入到小型风洞中,石蜡颗粒沉积在具有气膜冷却的平板表面上来模拟涡轮叶片上的颗粒物沉积过程。实验中将表征石蜡熔融颗粒尺寸的斯托克... 为了解涡轮叶片表面颗粒物的沉积规律和沉积对气膜冷却的影响,实验通过石蜡喷涂装置将熔融石蜡颗粒喷入到小型风洞中,石蜡颗粒沉积在具有气膜冷却的平板表面上来模拟涡轮叶片上的颗粒物沉积过程。实验中将表征石蜡熔融颗粒尺寸的斯托克斯数与实际燃气涡轮发动机中的煤灰颗粒相匹配,通过调节主流温度,保持石蜡颗粒在沉积前处于熔融状态来模拟真实涡轮叶片上颗粒物的粘附机理,观察没有气膜冷却情况下的石蜡沉积过程和有气膜冷却情况下,不同吹风比和不同射流角度对石蜡沉积的影响,以及石蜡沉积后对平板表面气膜冷却的影响。研究发现石蜡熔融温度与主流温度相接近时,更容易沉积在平板表面,并且石蜡沉积在生长到一定厚度后不再增长。在有气膜冷却的情况下,吹风比从0增加到1.5时,平板表面石蜡沉积先减少后增加,吹风比为0.5时,石蜡沉积最少。射流角度由30°增加到90°时,平板表面石蜡沉积逐渐增多。石蜡沉积降低了平板气膜冷却效率,并且气膜孔间下游区域的温度比气膜孔下游区域更高。 展开更多
关键词 石蜡颗粒 气膜冷却 沉积 吹风比 射流角度 冷却效率
静电喷涂新模型的试验研究
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作者 张淑珍 赵培 +1 位作者 毛伟 孔民秀 《高电压技术》 CSCD 北大核心 2018年第4期1218-1224,共7页
针对机器人喷涂应用较广,而实用的静电喷涂漆膜厚度分布数学模型较少的情况,进行了静电喷涂静态、动态喷漆试验,得到椭圆形漆膜分布中心轴截面及其平行截面上漆膜厚度分布数据。基于最小二乘法采用四次多项式对平行截面上涂层厚度进行拟... 针对机器人喷涂应用较广,而实用的静电喷涂漆膜厚度分布数学模型较少的情况,进行了静电喷涂静态、动态喷漆试验,得到椭圆形漆膜分布中心轴截面及其平行截面上漆膜厚度分布数据。基于最小二乘法采用四次多项式对平行截面上涂层厚度进行拟合,结果表明相互平行截面上的漆膜厚度分布曲线存在相似性且拟合曲线高次项系数为零,进而提出一种静电喷涂漆膜厚度分布新模型-椭圆抛物面分布模型,对该模型采用指数形式进行修正。基于修正后的静态喷涂漆膜分布模型进行了动态喷涂数值计算,并与动态喷涂试验数据进行对比,结果表明修正后椭圆抛物面分布模型与实验结果有较好的一致性。 展开更多
关键词 静电喷涂 漆膜厚度 椭圆抛物面分布模型 多项式拟合 动态喷涂
等离子体复合薄膜沉积抑制金属微粒启举 预览 被引量:4
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作者 程显 徐晖 +3 位作者 王瑞雪 高远 章程 邵涛 《电工技术学报》 CSCD 北大核心 2018年第20期4672-4681,共10页
气体绝缘金属封闭线路(GIL)和气体绝缘金属封闭开关设备(GIS)中的金属微粒污染是影响设备绝缘性能的主要因素之一,而电极表面覆膜能够在一定程度上提高直流应力下金属微粒的启举电压。本文探索一种使用等离子体射流对金属电极表面... 气体绝缘金属封闭线路(GIL)和气体绝缘金属封闭开关设备(GIS)中的金属微粒污染是影响设备绝缘性能的主要因素之一,而电极表面覆膜能够在一定程度上提高直流应力下金属微粒的启举电压。本文探索一种使用等离子体射流对金属电极表面处理以抑制金属微粒启举的方法。利用高频交流电源激励产生大气压等离子体射流在Cu表面沉积SiO2-TiO2复合薄膜,获得由厚度约2μm的TiO2薄膜和3.5μm的SiO2薄膜组成的致密复合薄膜,并且在测试频率为1kHz时TiO2和SiO2薄膜的相对介电常数分别为24和4左右。此外搭建金属微粒运动观测平台对比电极表面沉积薄膜前后对金属微粒启举的影响,并通过建模仿真计算沉积复合薄膜前后高压电极与金属微粒间的电场畸变程度。结果表明:电极表面沉积薄膜后金属微粒的启举电压提高约18%,在相同条件下表面沉积薄膜后金属微粒启举具有明显的延迟效应,并且沉积薄膜后金属微粒和电极间的最大电场强度由1.98×108V/m下降至1.82×108V/m。因此,通过等离子体增强化学气相沉积法在电极表面沉积薄膜能够提高金属微粒启举电压、降低其运动活性,为工程应用提供了新的解决方式。 展开更多
关键词 等离子体射流 直流气体绝缘金属封闭线路 沉积薄膜 电极表面覆膜 金属微粒启举
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基于电泳法的石墨烯涂层制备与摩擦学性能研究 预览
17
作者 洪红 陈苏琳 +2 位作者 陈茜 张执南 沈彬 《摩擦学学报》 CSCD 北大核心 2018年第4期391-400,共10页
采用电泳沉积方法在硅基体上制备石墨烯涂层,研究了不同电压对石墨烯涂层表面形貌、微观结构与摩擦学性能的影响,并在往复式球盘摩擦磨损试验机上研究了石墨烯涂层在不同载荷(1~9 N)下的摩擦学性能,采用扫描电子显微镜、能谱仪、光学... 采用电泳沉积方法在硅基体上制备石墨烯涂层,研究了不同电压对石墨烯涂层表面形貌、微观结构与摩擦学性能的影响,并在往复式球盘摩擦磨损试验机上研究了石墨烯涂层在不同载荷(1~9 N)下的摩擦学性能,采用扫描电子显微镜、能谱仪、光学显微镜、拉曼光谱仪和X射线光电子能谱仪分析石墨烯涂层的表面形貌、结构特征、磨损表面形貌及石墨烯结构成分的变化.结果表明:石墨烯涂层可将硅基体的表面摩擦系数从0.6降至0.1;在低压(15~60 V)条件下电泳制备的石墨烯涂层具有更加致密的微观结构,表面承载能力强,减摩性能优异.本研究中揭示了基于电泳法制备的石墨烯涂层作为固体润滑涂层应用的可行性. 展开更多
关键词 石墨烯涂层 电泳沉积 摩擦 承载能力 固体润滑涂层
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Preparation of transparent nanostructured N-doped TiO2 thin films by combination of sonochemical and CVD methods with visible light photocatalytic activity
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作者 Hossein RASOULNEZHAD Ghader HOSSEINZADEH +1 位作者 Reza HOSSEINZADEH Naser GHASEMIAN 《先进陶瓷(英文版)》 2018年第3期185-196,共12页
Pollution of water resources with pesticide compounds has raised serious environmentalproblems, and for photocatalytic degradation of these pollutants, thin film photocatalysts are preferredto colloidal ones due to th... Pollution of water resources with pesticide compounds has raised serious environmentalproblems, and for photocatalytic degradation of these pollutants, thin film photocatalysts are preferredto colloidal ones due to the separation problem of colloidal nanoparticles. In this work, nanostructuredTiO2 and N-doped TiO2 thin films with high transparency were deposited on glass and quartzsubstrates through sonochemical-chemical vapor deposition (CVD) method. The films prepared onglass and quartz substrates had nanocubic and nanospherical morphology, respectively. The presenceof N atoms in the structure of TiO2 resulted in a decrease in the band gap energy of TiO2 and also inthe reduction of photogenerated electron-hole recombination rate. Furthermore, the presence of Natoms induced the formation of Ti3+ species which can act as hole trapping centers. The prepared thinfilms were also used for the visible light photocatalytic degradation of paraoxon pesticide. Accordingto these results among the prepared thin films, the N-doped TiO2 thin films have higher photocatalyticactivity than pure TiO2 thin films. Moreover, in comparison with the thin films deposited on quartzsubstrate, the films on glass substrate have higher photocatalytic performance, which can be related tothe special nanocubic morphology of these samples. 展开更多
关键词 N-DOPED TiO2 film TRANSPARENT PHOTOCATALYST chemical vapor DEPOSITION (CVD) ultrasonic
气流聚焦静电喷雾喷射行为实验研究 预览 被引量:1
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作者 刘海燕 潘引波 +3 位作者 姜佳昕 张恺 郑高峰 柳娟 《中国机械工程》 CSCD 北大核心 2017年第8期946-952,共7页
为提高射流喷射的稳定性和薄膜成型效率,设计开发了具有气流聚焦功能的静电喷雾装置。仿真研究了喷雾空间电场和气体流场的分布特性,开展了静电喷雾实验研究,分析了喷雾射流喷射行为,讨论了静电喷雾薄膜沉积面积和纳米颗粒直径的控制规... 为提高射流喷射的稳定性和薄膜成型效率,设计开发了具有气流聚焦功能的静电喷雾装置。仿真研究了喷雾空间电场和气体流场的分布特性,开展了静电喷雾实验研究,分析了喷雾射流喷射行为,讨论了静电喷雾薄膜沉积面积和纳米颗粒直径的控制规律。结果表明,辅助气流的加载能够有效提高喷嘴处射流的喷射速度,促进射流拉伸细化,对减小纳米颗粒直径、提高颗粒均匀性都具有很好的促进作用。 展开更多
关键词 静电喷雾 气流聚焦 纳米颗粒 薄膜沉积 射流行为
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不同沉积温度下AZO透明导电薄膜的性能研究
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作者 张程 代明江 +3 位作者 石倩 代建清 侯惠君 林松盛 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2017年第22期155-157,161共4页
以纯度为99.99%氧化锌铝(w(Zn O)=98.00wt%,w(Al2O3)=2.00wt%)陶瓷靶为原料,利用直流磁控溅射法在普通白玻璃衬底上制备铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、四点探针测试仪和紫外可见光分光光度... 以纯度为99.99%氧化锌铝(w(Zn O)=98.00wt%,w(Al2O3)=2.00wt%)陶瓷靶为原料,利用直流磁控溅射法在普通白玻璃衬底上制备铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、四点探针测试仪和紫外可见光分光光度计等对薄膜的形貌、结构及光电性能进行分析。结果表明:薄膜具有c轴择优取向。随沉积温度升高,薄膜的结晶度先提高后下降,晶粒尺寸逐渐减小。当沉积温度为200℃时,可获得晶粒尺寸为18.30 nm、电阻率为4.1×10-3Ω·cm、透过率为93.80%的AZO透明导电薄膜。 展开更多
关键词 透明导电 AZO薄膜 磁控溅射 沉积温度
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