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锂离子电池浆料狭缝式涂布初期流场模拟研究 预览
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作者 巫湘坤 《电源技术》 CSCD 北大核心 2018年第4期500-503,共4页
锂离子动力电池极片涂布过程具有浆料粘度大、涂层厚、基材薄、精度要求高等特点,目前广泛采用狭缝挤压式涂布技术。采用实验和流体力学有限元分析方法对锂离子电池负极浆料在铜箔基材上的狭缝式涂布初期流场进行分析,结果表明模拟得到... 锂离子动力电池极片涂布过程具有浆料粘度大、涂层厚、基材薄、精度要求高等特点,目前广泛采用狭缝挤压式涂布技术。采用实验和流体力学有限元分析方法对锂离子电池负极浆料在铜箔基材上的狭缝式涂布初期流场进行分析,结果表明模拟得到的涂层厚度与实验结果吻合,说明计算模型可靠。当浆料入口速度为0.035m/s时,外流场区域被基材带走的浆料能及时得到补充,上流道和下流道均能在最短的时间内稳定,这是最佳的涂布操作工艺范围。 展开更多
关键词 锂离子电池 狭缝式涂布 有限元模拟
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电磁调节阀结构参数的确定 预览 被引量:1
2
作者 苏乾益 赵雪 吴薇 《流体机械》 CSCD 北大核心 2017年第12期45-49,共5页
主要讲述了如何通过数学计算的方法来确定电磁调节阀的结构参数.通过对阀芯组件在电磁调节阀中的受力分析,建立了阀芯的力学运动方程,并且对该方程作了详细的分析,从中得出阀芯组件在电磁调节阀中的运动规律.根据流体力学的理论知识,推... 主要讲述了如何通过数学计算的方法来确定电磁调节阀的结构参数.通过对阀芯组件在电磁调节阀中的受力分析,建立了阀芯的力学运动方程,并且对该方程作了详细的分析,从中得出阀芯组件在电磁调节阀中的运动规律.根据流体力学的理论知识,推导出阀口孔径d的计算公式,结合阀芯组件在电磁调节阀中的运动规律,从而推导出磁间隙L确定的方法.通过建立线圈的数学模型,并利用该模型对线圈参数进行设计计算,根据计算结果来确定合适的线圈参数.本文所述的电磁调节阀结构参数的确定方法不但能够为电磁调节阀的结构设计提供理论依据,而且能够为解决生产实际问题提供理论指导. 展开更多
关键词 电磁调节阀 结构 参数
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热式气体质量流量传感器的工作原理及其应用
3
作者 苏乾益 王忆南 蕈蔓 《中国计量》 2017年第4期96-98,106共4页
一、前言 热式气体质量流量传感器是气体质量流量控制器中一个重要的核心部件,对气体质量流量控制器的性能指标,如零漂、准确度、线性、重复度、响应时间等重要指标参数有直接影响。要使气体质量流量控制器的性能指标得到明显改善,首... 一、前言 热式气体质量流量传感器是气体质量流量控制器中一个重要的核心部件,对气体质量流量控制器的性能指标,如零漂、准确度、线性、重复度、响应时间等重要指标参数有直接影响。要使气体质量流量控制器的性能指标得到明显改善,首先就要提升热式气体质量流量传感器的性能。然而,热式气体质量流量传感器的性能与其本身的结构参数设计是密切相关的。 展开更多
关键词 气体质量 流量传感器 气体流量 输出信号 结构参数设计 工作原理 性能指标 热敏电阻丝 零漂 指标参数
无损伤单晶圆兆声波清洗装置的研发
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作者 滕宇 陈洁 +3 位作者 冯晓敏 刘伟 刘效岩 吴仪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第11期857-863,共7页
在半导体制造中,随着集成电路特征尺寸的不断缩小,晶圆表面纳米颗粒污染物的无损伤清洗变得越来越具有挑战。介绍了一种自主研发的单晶圆兆声波清洗装置,利用石英微共振腔阵列对到达晶圆表面的兆声波能量进行控制。研究了不同工艺条件... 在半导体制造中,随着集成电路特征尺寸的不断缩小,晶圆表面纳米颗粒污染物的无损伤清洗变得越来越具有挑战。介绍了一种自主研发的单晶圆兆声波清洗装置,利用石英微共振腔阵列对到达晶圆表面的兆声波能量进行控制。研究了不同工艺条件下该装置清洗后的颗粒去除效率,并与常规喷嘴的清洗结果进行比较。在图形损伤方面,采用该装置对具有40 nm线宽的多晶硅线条状栅极结构的图形晶圆进行了损伤测试,并与商业化的兆声波清洗装置的清洗结果进行对比。结果表明,该自主研发的装置能够在保证对晶圆表面图形结构没有损伤的前提下,有效地去除颗粒污染物,在40 nm及以下的半导体清洗工艺中应用前景广阔。 展开更多
关键词 颗粒去除效率 兆声波清洗 无损伤 图形晶圆 纳米颗粒污染物
低压磷扩散工艺研究 预览
5
作者 李吉 孙朋涛 +4 位作者 郑建宇 严金梅 魏红军 麻增智 赵朋松 《太阳能》 2016年第9期32-35,共4页
分析了低压磷扩散较常压扩散的优势,论述了低压磷扩散的工作原理及可以调节的工艺参数。通过研究真空条件下源流量、扩散时间、源瓶压力、真空泵压力等扩散工艺参数对扩散方块电阻的影响,了解低压磷扩散工艺的调试思路、途径及方法,... 分析了低压磷扩散较常压扩散的优势,论述了低压磷扩散的工作原理及可以调节的工艺参数。通过研究真空条件下源流量、扩散时间、源瓶压力、真空泵压力等扩散工艺参数对扩散方块电阻的影响,了解低压磷扩散工艺的调试思路、途径及方法,便于更高效开展低压磷扩散工艺的调试。 展开更多
关键词 低压扩散 源流量 源瓶压力 泵压力 扩散时间
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电磁调节阀的特性及应用
6
作者 苏乾益 《中国计量》 2016年第2期71-73,共3页
一、电磁调节阀的特性电磁调节阀的结构示意图,如图1所示。电磁调节阀主要由线包、阀芯、弹簧垫片和阀口密封垫等组成。电磁调节阀工作原理是:当电磁调节阀没有电压输入时,电磁调节阀所处的状态如图1(a)所示;当给电磁调节阀输入电压v时,
关键词 弹簧垫 阀口 电压输入 密封垫 流量控制器 工作原理 磁间隙 弹簧片 根据式 工作区域
基于SolidWorks Flow Simulation的比例阀和真空泵的选型与优化 预览
7
作者 张永军 李跃超 《CAD/CAM与制造业信息化》 2015年第4期68-72,共5页
在真空泵和罐体之间装一台比例阀,比例阀和真空泵配合可改变抽速,保证罐内恒压.比例阀根据压力变化要求提供维持需要压力,比例阀与真空泵的选型多数靠经验来匹配,往往出现高能耗.通过SolidWorksFlowSimulation对设备进行分析仿真,通过... 在真空泵和罐体之间装一台比例阀,比例阀和真空泵配合可改变抽速,保证罐内恒压.比例阀根据压力变化要求提供维持需要压力,比例阀与真空泵的选型多数靠经验来匹配,往往出现高能耗.通过SolidWorksFlowSimulation对设备进行分析仿真,通过数据对比最优化的对比例阀与真空泵体的选型. 展开更多
关键词 SOLIDWORKS SIMULATION 比例阀 真空泵 最优化 FLOW 选型 压力变化
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卡盘转速及喷淋臂摆动方式对晶片腐蚀性能的影响
8
作者 刘伟 吴仪 刘效岩 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第11期861-865,871共6页
随着晶片尺寸的不断增大,精准控制单片湿法腐蚀速率及非均匀性变得越来越具有挑战性。主要研究了300 mm单片湿法腐蚀工艺过程中,喷射稀释氢氟酸时卡盘的旋转速度和喷淋臂摆动方式对晶片表面腐蚀性的影响。结果表明,随着卡盘旋转速度的增... 随着晶片尺寸的不断增大,精准控制单片湿法腐蚀速率及非均匀性变得越来越具有挑战性。主要研究了300 mm单片湿法腐蚀工艺过程中,喷射稀释氢氟酸时卡盘的旋转速度和喷淋臂摆动方式对晶片表面腐蚀性的影响。结果表明,随着卡盘旋转速度的增大,腐蚀速率从1.02 nm/min线性提高到1.06 nm/min,腐蚀速率的非均匀性先是迅速降低,但当转速高于150 r/min后,基本保持在2.70%。喷淋臂在晶片中心定点喷射、匀速摆动和呈抛物线型摆动时,晶片腐蚀速率都约为1 nm/min,腐蚀速率均沿晶片中心到边缘径向降低,与定点喷射相比,喷淋臂在晶片表面摆动后,腐蚀速率的非均匀性明显降低,且抛物线摆动低于匀速摆动,达到1.48%。 展开更多
关键词 单片湿法腐蚀 卡盘转速 喷淋臂摆动方式 腐蚀速率 腐蚀非均匀性
在线湿法刻蚀设备的控制系统 预览
9
作者 刘运洋 李博 +1 位作者 王晓飞 司禹 《电子工业专用设备》 2015年第8期33-36,共4页
根据在线湿法刻蚀设备的工艺要求及特点,介绍了控制系统的构成,CANopen网络控制方式,以及同步传送、自动补配液、自动清洗等功能,从而保证批量在线生产的工艺效果。
关键词 在线湿法刻蚀 控制系统 CANOPEN
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高科技企业核心技术人员薪酬激励模式探讨 预览
10
作者 张文婷 《人才资源开发》 2015年第24期108-109,共2页
核心技术人员是高科技企业产品研发、技术创新和提升企业竞争实力的关键因素,薪酬激励模式设计合理与否直接关系着核心技术人员的工作积极性,最终也决定了高科技企业的成长与发展。
关键词 高科技企业 核心技术人员 薪酬激励
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低温共烧陶瓷技术的现状和走向 预览 被引量:2
11
作者 王瑞庭 《真空电子技术》 2015年第5期6-10,共5页
通信、汽车、医疗、工业、军事和宇航应用对电子系统高性能、高密度,高可靠的要求正在并继续对电子封装工程师提出挑战。这种挑战使得多芯片模块(MCM)成为必然的选择。这是由于多芯片模块不仅可以提高系统的封装密度,而且可以成数量级... 通信、汽车、医疗、工业、军事和宇航应用对电子系统高性能、高密度,高可靠的要求正在并继续对电子封装工程师提出挑战。这种挑战使得多芯片模块(MCM)成为必然的选择。这是由于多芯片模块不仅可以提高系统的封装密度,而且可以成数量级地提高系统的可靠性及其电气、散热和密封性能。多芯片模块现在采用的有机层压板(MCM-L)、陶瓷(MCM-C)和沉积薄膜(MCM-D)的封装技术。其中尤以陶瓷封装技术—LTCC技术相对于其它封装技术显示出更巨大的魅力。它的优异的高频性能、散热性能和密封性能、可靠性和经济性使其成为无线通信、汽车电子、医疗电子和军事宇航应用的首选封装技术。展现了美好的技术和市场前景。本文介绍了LTCC技术的现状及其成为陶瓷型多芯片模块主导封装技术的令人振奋的新发展。描述了工业界对其的接收和认可。勾画了该技术巨大的市场潜力。 展开更多
关键词 低温共烧陶瓷 多芯片模块 电子封装
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双磁悬浮泵串联技术在超精细清洗机中的应用 被引量:1
12
作者 张磊 吴仪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第7期549-553,共5页
化学药液供给系统是晶片清洗机的重要功能单元。其特殊的使用环境,要求动力泵应该具备耐化学腐蚀、不产生污染颗粒、外形尺寸小、而且输出的压力较高和流量较大等特性。重点介绍了磁悬浮泵在65 nm超精细清洗机化学药液供给系统中的使用... 化学药液供给系统是晶片清洗机的重要功能单元。其特殊的使用环境,要求动力泵应该具备耐化学腐蚀、不产生污染颗粒、外形尺寸小、而且输出的压力较高和流量较大等特性。重点介绍了磁悬浮泵在65 nm超精细清洗机化学药液供给系统中的使用情况,包括磁悬浮泵的结构特点、性能参数、控制方式、双泵串联的控制方法以及自主开发的压力-速度闭环控制器,避免了因为环境电磁干扰对速度信号(0~5 V)采集引入的误差。结果显示,药液压力建立快速、无超调,到达目标压力后泵转速稳定,压力闭环控制精度小于工艺压力设定值的1%。 展开更多
关键词 清洗机 磁悬浮泵 双泵串联 压力控制 闭环控制
脊髓打击系统中移动平台的位移测量与定位设计 预览
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作者 葛霜 崔鑫 《计算机光盘软件与应用》 2014年第24期271-271,273共2页
近年来,脊髓损伤的发病率逐年上升,受病人群越来越年轻化,且难以治愈,需要进行大量的临床试验对脊髓损伤的药物进行研究和测试,所以如何制备大量的,标准化的脊髓损伤模型就显得尤为重要。本文针对脊髓打击器中的脊髓打击平台,设计了一... 近年来,脊髓损伤的发病率逐年上升,受病人群越来越年轻化,且难以治愈,需要进行大量的临床试验对脊髓损伤的药物进行研究和测试,所以如何制备大量的,标准化的脊髓损伤模型就显得尤为重要。本文针对脊髓打击器中的脊髓打击平台,设计了一种移动平台及其定位方法,利用绝对编码器每一个位置都对应唯一的格雷码输出和断电记忆等功能,通过PLC编程技术,实现了移动平台位置的定位和测量并通过触摸屏实时显示。 展开更多
关键词 绝对编码器 触摸屏 定位 脊髓打击装置
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300mm快速升降温炉体的研究 预览
14
作者 孙少东 《电子工业专用设备》 2014年第8期15-19,共5页
介绍了一种快速升降温炉体的研制.由于传统的炉体升温响应较慢,升温耗时耗能,与之相比的快速升降温炉体,在升温性能方面,实现了升温响应快、抑制超调效果好.在降温方面,传统炉体只能依靠自然降温,平均降温速率3-4℃/min,增加了晶圆的工... 介绍了一种快速升降温炉体的研制.由于传统的炉体升温响应较慢,升温耗时耗能,与之相比的快速升降温炉体,在升温性能方面,实现了升温响应快、抑制超调效果好.在降温方面,传统炉体只能依靠自然降温,平均降温速率3-4℃/min,增加了晶圆的工艺时间,增大了设备工艺气体、水、电等资源的消耗,而具有快速降温能力的炉体,很好地克服了传统炉体自然降温方面的不利.在新近研制的300 m m立式氧化设备中,实现了30℃/min的升温速率和15℃/min的降温速率,大大缩短了晶圆的工艺时间,保证了晶圆的成膜质量. 展开更多
关键词 立式氧化炉 炉体 快速升降温
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软着陆闭管扩散炉几个关键控制单元的设计与应用 预览
15
作者 郝晓明 李补忠 +1 位作者 桂晓波 肖东辉 《电子工业专用设备》 2014年第10期23-28,49共7页
为了适应太阳能电池生产的新工艺需求,提出一种新型的软着陆闭管扩散炉系统,为扩散炉系统向智能型、精密型的方向发展进行有益的探索,并阐述了软着陆闭管扩散炉系统的结构组成和工艺原理以及技术指标,重点对扩散炉系统中送料装置软着陆... 为了适应太阳能电池生产的新工艺需求,提出一种新型的软着陆闭管扩散炉系统,为扩散炉系统向智能型、精密型的方向发展进行有益的探索,并阐述了软着陆闭管扩散炉系统的结构组成和工艺原理以及技术指标,重点对扩散炉系统中送料装置软着陆单元、炉门自动封闭单元以及炉管压力平衡单元的电气控制部分进行了详细的分析,其中运用了上下位机与PLC结合的控制方式对送料装置软着陆、炉门自动封闭进行了设计,运用PID控制方式对炉膛内压力进行控制,使其达到平衡。 展开更多
关键词 扩散炉 压力平衡控制 旋转炉门 软着陆
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自动传输机构设计 预览
16
作者 朱旺平 《电子工业专用设备》 2014年第10期29-32,共4页
介绍了自动传输舟系统在太阳能生产线设备上应用,具有高性能、自动化程度高、高性价比等特点,文中阐述了该机构的结构特点,技术先进性。
关键词 自动传输舟 上下料 性价比
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单晶片清洗设备化学药液温度控制系统研制 预览
17
作者 马嘉 吴仪 +1 位作者 王锐廷 李文杰 《电子工业专用设备》 2013年第8期30-34,70共6页
针对300mm单晶片清洗设备,设计开发了一套化学药液温度控制系统。由于化学药液传输系统具有大惯性、大时滞、非线性的特点,采用Smith预估法设计了一种温度控制算法;并基于可编程计算机控制器(PCC)设计实现了化学药液温度控制系统... 针对300mm单晶片清洗设备,设计开发了一套化学药液温度控制系统。由于化学药液传输系统具有大惯性、大时滞、非线性的特点,采用Smith预估法设计了一种温度控制算法;并基于可编程计算机控制器(PCC)设计实现了化学药液温度控制系统。介绍了该控制系统的硬件组成和控制算法设计,实验结果表明该温度控制系统能够满足清洗工艺需求。该系统现已成功应用于自主研发的300mm、65nm铜互连单片清洗设备。 展开更多
关键词 化学药液传输系统 温度控制 Smith预估法 清洗设备
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65nm Cu互连晶片边缘和辐射状污染研究
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作者 刘效岩 吴仪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第9期676-680,共5页
随着Si片尺寸加大和特征尺寸的缩小,对Si片的洁净程度、表面的化学态以及表面缺陷等要求越来越高。针对300 mm 65 nm Cu互连晶片清洗后表面常出现边缘和辐射状污染的问题。在理论分析的基础上,研究了缩短化学药液喷射臂和去离子水喷射... 随着Si片尺寸加大和特征尺寸的缩小,对Si片的洁净程度、表面的化学态以及表面缺陷等要求越来越高。针对300 mm 65 nm Cu互连晶片清洗后表面常出现边缘和辐射状污染的问题。在理论分析的基础上,研究了缩短化学药液喷射臂和去离子水喷射臂的间隔时间,实现不同喷射臂无间隔连续喷射技术,并优化化学药液喷射臂的摆臂速度、轨迹和起始终止角度等参数。采用北京七星华创电子股份有限公司自主研发的300 mm 65 nm Cu互连单片清洗机进行工艺实验,结果表明:清洗后晶片表面无边缘和辐射状污染,清洗后晶片表面临界颗粒直径0.12μm,临界颗粒数每片30个;临界尺寸变化不大于2%。 展开更多
关键词 300 mm SI衬底 65 NM CU互连 边缘和辐射状污染 颗粒度 特征尺寸
石英脱羟真空炉的机械设计研究
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作者 徐英锋 谢晶 杨卫平 《真空》 CAS 2013年第6期57-59,共3页
石英真空脱羟炉是金卤灯用石英玻玮5脱羟上艺的关键设备。分析了石英脱羟炉的核心部件加热器、隔热屏的设计思路,根据计算功率进行了加热器的设计计算和校核;阐述了抽真空系统和快速冷却系统的设计思路等。结合现代CAD技术,进行三维... 石英真空脱羟炉是金卤灯用石英玻玮5脱羟上艺的关键设备。分析了石英脱羟炉的核心部件加热器、隔热屏的设计思路,根据计算功率进行了加热器的设计计算和校核;阐述了抽真空系统和快速冷却系统的设计思路等。结合现代CAD技术,进行三维建模,可以大大提高设计效率和保证设计一次成功率,通过实践检验,能够达到设计的各项指标,完全可以满足石英玻璃脱羟工艺的要求。 展开更多
关键词 石英真空脱羟炉 三维建模 加热器设计
多颗粒沉积模型预测铜和铝冷喷涂层微观形貌 被引量:2
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作者 巫湘坤 周香林 +1 位作者 崔华 张济山 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1391-1399,共9页
采用有限元软件ANSYS/LS—DYNA建立了15个颗粒与基板的冷喷涂沉积模型,通过多颗粒沉积模型预测工艺条件、不同颗粒/基板组合的沉积行为和微观形貌;制备了Al和Cu冷喷涂涂层,观察了涂层截面形貌和颗粒变形特征,并与模拟结果进行对... 采用有限元软件ANSYS/LS—DYNA建立了15个颗粒与基板的冷喷涂沉积模型,通过多颗粒沉积模型预测工艺条件、不同颗粒/基板组合的沉积行为和微观形貌;制备了Al和Cu冷喷涂涂层,观察了涂层截面形貌和颗粒变形特征,并与模拟结果进行对比.结果表明,多颗粒沉积模型可预测喷涂条件对颗粒沉积过程及涂层微观特征的影响,以及不同颗粒/基板组合的界面微观形貌.当碰撞速度低时,颗粒变形不充分,颗粒交界处易形成孔洞;随着速度增加,颗粒流变填充孔洞,涂层致密.与颗粒相比,硬基板涂层/基板界面平滑,机械互锁作用小;软基板形成射流状金属挤入颗粒之间,增加结合作用. 展开更多
关键词 喷涂 涂层 微观形貌 计算机模拟 有限元法 沉积 界面
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